Vaakum -täppisvalude varajases arengus ilmus horisontaalsed ahjud, mis olid põhimõtteliselt sama perioodiga kui vertikaalsed ahjud. Seadmete koostise osas ei erine seda tüüpi seadmete söötmise, temperatuuri mõõtmise, vaatluse jms lisamehhanismid vertikaalse ahju omadest, välja arvatud paigutus. Kuid praeguse seisuga on vertikaalsete ahjude turuosa ületanud horisontaalsed ahjud. Sellel on mitu põhjust:
1. vertikaalsed ahjud ei sobi mitte ainult võrdsusega kristallide valamiseks, vaid ka sammaste kristallide ja üksikkristallide tootmiseks. Neil on hea kohanemisvõime ja seadmed, mis tootjad eelistavad standardiseeritud ja moodulkujunduse ideid;
2. horisontaalse ahju vertikaalne ruum on väike ja paljud täppisvaluprotsessid nõuavad valamise ajal sulametalli teatavat voolukiirust ja kiirust (saadud gravitatsioonipotentsiaali energia kaudu). Seetõttu ei soodusta seda horisontaalse ahju konstruktsioonilised mõõtmed seda vertikaalses ruumis;
3. Seadmete jaoks, mis nõuavad hallituse küttekehade paigaldamist vormide kuumutamiseks/isolatsiooniks, on vertikaalsetel ahjudel rohkem eeliseid ahju ruumi paigutuse osas ja neil on suur ruum personali hooldamiseks, muutes selle hooldamise ja kasutamise hõlpsaks.
Ülaltoodud põhjustel on horisontaalse vaakumi täppisvalude üldine arv väiksem kui vertikaalsed ahjud.